一氧化碳原位激光過程氣體分析儀

簡要描述：一氧化碳原位激光過程氣體(ti) 分析儀(yi) GasTDL-3100是基於(yu) 可調諧半導體(ti) 激光吸收光譜技術（TDLAS）的高性能光學分析儀(yi) 器，采用對射式設計，可用於(yu) 工業(ye) 過程氣體(ti) 控製；其響應時間快速，在原位式測量中一般以秒計算，避免采樣式測量帶來的時間延遲，可在線及時的反應被測氣體(ti) 濃度。

產品型號：GasTDL-3100
廠商性質：生產廠家
更新日期：2025-02-25
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氣體(ti) 分析儀(yi) 器

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一氧化碳原位激光過程氣體(ti) 分析儀(yi)

一氧化碳原位激光過程氣體(ti) 分析儀(yi) GasTDL-3100是基於(yu) 可調諧半導體(ti) 激光吸收光譜技術(TDLAS)的高性能光學分析儀(yi) 器，采用對射式設計，可用於(yu) 工業(ye) 過程氣體(ti) 控製；其響應時間快速，在原位式測量中一般以秒計算，避免采樣式測量帶來的時間延遲，可在線及時的反應被測氣體(ti) 濃度。

一氧化碳原位激光過程氣體(ti) 分析儀(yi) 產(chan) 品特性：

· 采用TDLAS技術，被測氣體不受背景氣體交叉幹擾

· 原位安裝，無需采樣預處理係統

· 響應快速(T90≤1s)，可實時反應氣體濃度

· 實時在線測量，氣體濃度不易失真，測量精度高

· 在高溫、高粉塵、高水分、高腐蝕性、高流速等惡劣測量環境下具有良好的適應性

· 隔爆防爆設計，安全係數高

· 構造簡潔，無可動元件，無損耗元件，免維護

技術參數：

性能參數
測量組份	O2、CO、CO2、CH4*
測量原理	TDLAS
測試範圍	O2:(0 ～ 5)%VOL （可定製100%） CO:(0 ～ 100)%VOL CO2:(0 ～ 100)%VOL CH4:(0 ～ 20)%VOL
精度	≤±1%F.S.
重複性	≤±1%
量程漂移	≤±1%F.S.
分辨率	0.01%VOL
響應時間	T90≤1s
工作參數
防爆等級	Ex db IIC T6 Gb / Ex tb IIIC T80℃ Db
安裝方式	原位安裝
環境溫度	（-20～ +60）℃
工作電源	24V DC，24W
吹掃氣體	（0.3～ 0.8）MPa工業氮氣
接口信號
通訊	RS485、RS232
輸出模式	2路4-20mA輸出 3路繼電器輸出
*注釋：每套分析儀測量單一組分氣體濃度

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