四方光電塵埃粒子計數器精準監測微粒汙染，助力顯示麵板製程良率提升

四方光電塵埃粒子計數器精準監測微粒汙染，助力顯示麵板製程良率提升

受益於(yu) 下遊電視、電腦、手機等消費類電子產(chan) 品以及商顯、車載、醫療等專(zhuan) 顯產(chan) 品需求的推動，近年來中國顯示麵板市場規模整體(ti) 呈增長態勢，由2016年的2984億(yi) 元增長至2023的5694億(yi) 元，但整體(ti) 增速逐步趨緩，市場競爭(zheng) 進一步加劇。中大尺寸市場仍由LCD技術主導，但競爭(zheng) 格局較為(wei) 固定，需要進一步提升產(chan) 品良率，降本增效，以提升產(chan) 品利潤和競爭(zheng) 力。OLED技術逐漸成熟，占領小尺寸市場，但與(yu) LCD相比在工藝成熟度和產(chan) 品良率上仍有較大的提升空間。綜上，在LCD和OLED麵板的製造中，產(chan) 品良率提升都是下一階段需要迫切解決(jue) 的問題。

平板顯示製程良率受微粒汙染和靜電損害影響

以TFT-LCD為(wei) 代表的顯示麵板生產(chan) 過程主要有三個(ge) 工序 Array、Cell 和 Module，製造程序複雜，製造過程中需要進行嚴(yan) 格的環境管控，減少對產(chan) 品的損害。OLED因其構造簡單，製造流程不像LCD那樣複雜，但也需要在潔淨環境中生產(chan) 。在平板顯示製程中影響產(chan) 品良率的汙染物有很多，包括金屬離子、氣態分子汙染物、微粒、細菌以及靜電等，其中對LCD和OLED製程良率影響最大的是微粒汙染和靜電損害。

• 微粒汙染

隨著器件微型化和精細化進程的加快，高密度的集成電路的圖形特征尺寸和表麵沉積層的厚度都已經降到微米級別，更容易受到微粒的影響，基板表麵微粒沉積，易引起基板點缺陷甚至線缺陷特性不良，降低良品率。

• 靜電顆粒吸附汙染

靜電的產(chan) 生是因為(wei) 每一種材料的電子能級不同，兩(liang) 種不同材料在接觸時會(hui) 發生電荷轉移。由於(yu) 靜電的負麵效應，使得保持高水準的產(chan) 品質量和產(chan) 品良率更加困難。平板顯示製程中常見靜電損害主要有ESA（顆粒吸附）汙染、ESD（靜電放電）汙染和電磁波幹擾引起的設備故障三種。其中ESA汙染是因為(wei) 產(chan) 品製程中的移動會(hui) 造成產(chan) 品表麵有靜電場的存在，它的靜電場會(hui) 把附近的微粒吸引到它的表麵，並且其吸力較大，極難在沒有機械力的情形下清除。微粒的靜電吸附，增加了芯片表麵的汙染，進而降低了良率。

所以為(wei) 了提高平板顯示製程良率，在控製靜電損害的同時，也要重視對於(yu) 微粒的監測，保證生產(chan) 環境的潔淨度。通過實時監控微粒的變化參數，如果微粒超標可以及時發現，采取針對性措施進行防控改善，以減少落在芯片和設備表麵的微塵粒子，降低因為(wei) 微粒本身和靜電微粒吸附（ESA）造成的產(chan) 品損壞，提高良率。

四方光電研製的在線塵埃粒子計數器可以實時監測潔淨車間中單位體(ti) 積內(nei) 空氣中不同粒徑的懸浮顆粒物的個(ge) 數，並通過3.5寸觸摸屏顯示粒徑信息和警報提示，當微粒超標時可通過內(nei) 置蜂鳴器報警，能有效應用於(yu) 麵板生產(chan) 潔淨車間中，滿足監測需求。四方光電在線塵埃粒子計數器OPC-6303DS/OPC-6510DS/OPC-6511DS采用光學散射原理，內(nei) 置四方光電的塵源智能識別模塊，具有高效粒子識別率，檢測精度高；內(nei) 置超聲波氣體(ti) 流量傳(chuan) 感器，實現28.3L恒流采樣，數據長期穩定性高；低噪音渦輪風機采樣，連續監測穩定性好，壽命長；滿足IS014644-1:2015、新版GMP、JF1190-2008、GB/T6167-2007標準，廣泛應用於(yu) 百級、千級、萬(wan) 級、十萬(wan) 級等潔淨室環境。