四方光電塵埃粒子計數器在半導體潔淨生產中的應用

半導體(ti) 產(chan) 能不斷擴張，配套設備需求提升加速

隨著電子信息產(chan) 業(ye) 的迅速發展，中國半導體(ti) 行業(ye) 市場規模也從(cong) 2017年的1315億(yi) 美元增長至2022年的1820億(yi) 美元。基於(yu) 半導體(ti) 產(chan) 業(ye) 國產(chan) 化進程不斷加快，下遊晶圓廠也在不斷擴張，中國芯片製造商預計2024 年將新開18座晶圓廠，產(chan) 能將從(cong) 760萬(wan) 片推升至860 萬(wan) 片。在半導體(ti) 國產(chan) 化趨勢下，國內(nei) 晶圓廠的擴張也有望帶動半導體(ti) 配套設備的國產(chan) 替代需求，將隨著晶圓工廠的擴產(chan) 持續增加。

顆粒汙染影響產(chan) 品品質，半導體(ti) 製造潔淨度要求高

根據國際半導體(ti) 設備製造商協會(hui) (SEMI) 最近發布的世界晶圓廠預測 ，超過50%的半導體(ti) 產(chan) 量損失可歸因於(yu) 微汙染。為(wei) 了最大限度地減少良率損失，半導體(ti) 製造廠必須在潔淨室中采用嚴(yan) 格的汙染控製策略。半導體(ti) 製造工藝複雜，如何提高產(chan) 品的成品率對於(yu) 半導體(ti) 企業(ye) 在競爭(zheng) 中保持優(you) 勢至關(guan) 重要。影響半導體(ti) 成品率的因素有很多，其中生產(chan) 過程中的空氣雜質（塵埃顆粒）是不可忽視的因素。由於(yu) 高密度的集成電路的圖形特征尺寸和表麵沉積層的厚度都已經降到微米級別，更容易受到微粒的影響，這種微粒附著在半導體(ti) 表麵可能會(hui) 形成致命的缺陷，導致器件失效。

LSI各製造工序與(yu) 潔淨室的清潔條件

四方光電塵埃粒子計數器，讓潔淨室微塵無所遁形

四方光電在線粒子計數器OPC-6510DS采用光學散射原理，可精確檢測並計算單位體(ti) 積內(nei) 空氣中不同粒徑的懸浮顆粒物的個(ge) 數，具有28.3L/min大流量的氣體(ti) 采樣速率，可同時輸出0.3um、0.5μm、1.0μm、5.0um、10um五個(ge) 通道的顆粒數(默認單位pcs/28.3L)，廣泛應用於(yu) 百級、千級、萬(wan) 級、十萬(wan) 級等潔淨室環境。

l 采用3.5寸觸摸屏，實時顯示各粒徑數量、等級以及報警信息等

l 內(nei) 置四方光電的塵源智能識別模塊，高效粒子識別率，檢測精度高

l 內(nei) 置超聲波流量傳(chuan) 感器，實現28.3L恒流采樣，數據長期穩定性高

l 低噪音渦輪風機采樣，連續監測穩定性好，壽命長

l 滿足IS014644-1:2015、新版GMP、JF1190-2008、GB/T6167-2007標準

| 滿足IS014644-1:2015、新版GMP、JF1190-2008、GB/T6167-2007標準